茂名菲涅尔透镜原理

菲涅尔透镜作用有两个：一是聚焦作用，即将热释红外信号折射（反射）在PIR上，第二个作用是将探测区域内分为若干个明区和暗区，使进入探测区域的移动物体能以温度变菲涅尔透镜化的形式在PIR上产生变化热释红外信号。菲涅尔透镜，简单的说就是在透镜的一侧有等距的齿纹，通过这些齿纹，可以达到对指定光谱范围的光带通(反射或者折射)的作用。传统的打磨光学器材的带通光学滤镜造价昂贵。菲涅尔透镜可以极大的降低成本。典型的例子就是PIR。PIR普遍的用在警报器上。如果你拿一个看看，你会发现在每个PIR上都有个塑料的小帽子。这就是菲涅尔透镜。小帽子的内部都刻上了齿纹。这种菲涅尔透镜可以将入射光的频率峰值限制到10微米左右（人体红外线辐射的峰值）。菲涅尔透镜作用发展现状。茂名菲涅尔透镜原理

该声学超材料未来在声学隐身、声学吸波、声波通信及其他各类声学器件中具有很多潜在应用。技术实现要素：实用新型目的：本实用新型提供一种可实时调控、多功能、结构简单、低成本、易于加工的旋转可调的二维声学超材料透镜。技术方案：为实现上述实用新型目的，本实用新型采用以下技术方案：一种旋转可调的多功能二维声学超材料透镜，包括基底材料层以及等间隔镶嵌在基底材料层上的若干c型单元超材料阵列，c型单元超材料阵列由若干个c型单元结构周期性排列而成。可选的，c型单元结构为亚波长单元结构，且c型单元结构为各向异性的超材料单元。可选的，每个c型单元结构由电机控制旋转角度，不同的旋转角度下c型单元结构获得不同的折射率值，进而得到不同折射率分布的c型单元超材料阵列。可选的，c型单元结构和基底材料层均由光敏树脂材料经3d打印制作而成。可选的，c型单元结构为半圆筒型，其周期尺寸为a，外半径为r，圆环宽度为w，开口角度为θ。可选的，该透镜为聚焦透镜、发散透镜、偏折透镜或高透射透镜。可选的，该透镜工作频率为4000hz～9000hz。有益效果：与现有技术相比，本实用新型具有以下优点：(1)本实用新型的可调二维声学超材料透镜通过电机控制单元结构旋转。珠海菲涅尔透镜参数柱状菲涅尔透镜24小时服务客服电话。

inp)等。在一些实施例中，衬底302是玻璃衬底(例如，pyrex衬底或硼硅玻璃衬底)或蓝宝石衬底(al2o3)。根据实施例，横跨衬底302的表面的每个vcsel结构304彼此各不相同。每个vcsel结构304包括具有多个镜像层(例如，布拉格反射器)的层堆叠，这些镜像层将多个量子阱层夹在中间，以生成从每个vcsel结构304的顶部传导出来并且沿衬底302的表面的法线的激光辐射。每个vcsel304可以按顺序布置在衬底302的整个表面。在一个示例中，vcsel304被布置在2d阵列图案中，每个vcsel在横跨衬底302的表面的x方向和y方向上相隔相同的距离。也可以按照其他顺序模式布置vcsel304，或者可以将其被布置在伪随机图案中。尽管衬底302被示出为具有圆形，但这不是限制性的，并且衬底302可以具有任何形状和大小。在一些实施例中，衬底302是来自在x方向和y方向上具有毫米或厘米级的尺寸的较大衬底的冲模(die)。另外，在一些实施例中，从数百个vcsel到数百万个vcsel甚至更多的任意数目的vcsel304可以被布置在衬底302上。图4示出了根据实施例的具有***多个vcsel402和第二多个vcsel404的衬底302的侧视图。***多个vcsel402和第二多个vcsel404中的每个vcsel单独地从衬底302的表面向外延伸。

本申请大体涉及成像领域，具体地涉及高计算效率的结构化光成像系统。背景技术：创建3d图像的一种途径被称为结构化光照明(sli)技术。在sli技术中，光图案被投射到3d物体表面上。sli系统包括相机和投影仪(照明器)。3d物体被放置在与投影仪和相机相距预定距离的参考平面上。在使用中，投影仪将结构化光图案投射到3d物体表面上。结构化光图案可以是一系列条纹线或网格或任何其他图案。当结构化光图案被投射到3d物体表面上时，其被3d物体表面扭曲。相机捕捉在结构化光图案中具有的扭曲的3d物体表面的图像。然后，图像被存储在图像文件中，以供图像处理设备处理。在一些情况下，多个结构化光图案被投影仪(照明器)投射到3d物体表面上，并且具有结构化光图案的3d物体的多个图像被相机捕捉。在图像文件的处理期间，对结构化光图案中的扭曲进行分析，并且执行计算以确定3d物体表面上的各个点相对于参考表面的参考测量结果。这种图像处理使用标准测距或三角测量方法。相机和投影图案之间的三角测量角导致与表面的深度直接相关的扭曲。一旦这些测距技术被用来确定3d物体表面上的多个点的位置，则3d物体的3d数据表示即可被创建。3d物体的数字再造在包括图像识别(例如。大型菲涅尔透镜价格咨询。

因此使用词语“顶”并不将该层限制到任何具体的空间或几何关系。本文描述的任意vcsel结构可以包括用于操控光输出的一个或多个元原子800。应该理解的是，为了清楚起见*示出了单个元原子，但是任意数目的元原子可以被图案化在顶层802上。尽管在本实施例中示出了圆柱形状，但是任意形状可以用于元原子800。元原子800可以具有基于来自vcsel的发射光的峰值波长的直径。例如，元原子800可以具有范围在λ/10到λ/5之间的总直径。类似地，元原子800的总厚度取决于来自vcsel的发射光的峰值波长。例如，元原子800可以具有大约λ/2的厚度。芯材804可以是具有相对较低的折射率但是高沉积速率的材料，因此提高了制造元原子800时的吞吐量。例如，芯材804可以是氮化硅(si3n4)，并且可以使用化学气相沉积(cvd)或物***相沉积(pvd)技术沉积。随后可以使用标准等离子体蚀刻工艺对所沉积的氮化硅层进行蚀刻，以形成每个元原子800的芯材804。壳材806可以是具有相对较高的折射率(或者至少比芯材804的折射率高)的材料。例如，诸如氧化钛(tio2)或硅之类的材料可被用于壳材806，并且可以通过使用原子层沉积(ald)技术来非常薄地沉积。ald允许壳材806以非常薄的厚度共形地覆盖芯材804的外表面上。例如。菲涅尔透镜制取检测技术。梅州小菲涅尔透镜

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壳材806可以具有小于10nm、小于5nm、小于1nm的厚度或单层原子。图9a至9c示出了根据一些实施例的图案化在vcsel结构的顶层802上的元原子的不同示例。图9a示出了***元结构902，其中，壳材806围绕用于每个元原子的芯材804，但是不覆盖顶层802在每个元原子之间的区域。在蚀刻工艺期间，使用例如光刻胶或硬掩模来保护壳材806的围绕芯材804的部分，以移除壳材806在顶层802的表面上的暴露部分。图9b示出了第二元结构904，其中，壳材906共形地覆盖包括芯材804的所有表面和顶层802的表面。图9c示出了第三元结构906，其中，壳材806*覆盖芯材804的一个或多个侧壁。在沉积壳材806后，可以执行包层各向异性干法蚀刻工艺，以移除壳材806的所有水平平面部分，*留下芯材804的侧壁上的那些部分。图10示出了根据实施例的包括不止一种类型的元原子的元结构1000(这里称为“元分子(metamolecule)”)的另一示例。根据实施例，***元原子1002包括具有基部1006和顶部1008的芯材。基部1006可以比顶部1008更宽或更窄。第二元原子1004包括芯材1010，并且***元原子1002和第二元原子1004二者被壳材1012环绕。茂名菲涅尔透镜原理

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